
更新时间:2025-12-17
浏览次数:36在半导体制造及超纯气体相关行业中,气体中残余湿气的精准控制是确保工艺稳定性与产品质量的关键环节。英国Michell(密析尔仪表)推出的Pura高纯气露点变送器,凭借其在阻抗露点传感器领域的深厚积累,结合工业化材料与制造流程,为这一需求提供了兼具经济性与可靠性的解决方案。以下从测量性能、精度表现及应用范围三个维度展开技术分析。
Michell Pura露点变送器的核心优势在于其极低的测量下限,可覆盖-120°C露点(相当于湿气浓度低于1 ppbV),这一性能直接解决了超纯气体中微量水分检测的技术难题。在半导体制造中,工艺气体(如高纯度氮气、氢气、氩气等)的湿气残留可能引发晶圆表面污染、反应异常或设备腐蚀等问题,而Pura通过陶瓷湿度传感器技术,实现了对痕量水分的连续在线监测,无需依赖复杂或昂贵的分析设备。
此外,Pura的高度集成采样装置和紧凑小巧的设计(Premium/OEM型尺寸为120×35×150mm,重量仅450g;Sensor型尺寸为132×35mm,重量180g)显著降低了安装与维护的复杂度。其采用VCR过程接口(¼"或½"接口),确保了与工业管道系统的兼容性,同时避免了密封泄漏风险。这种设计不仅简化了现场部署,还适应了对空间和清洁度要求高的半导体生产环境。
Pura变送器的精度特性与其测量范围密切相关,具体表现为:
-40°C至-60°C露点区间:精度±1°C;
-61°C至-100°C露点区间:精度±2°C;
-101°C至-120°C露点区间:精度±4°C(估算值)。
这一分段精度设计反映了传感器在超低露点条件下的技术挑战。例如,在-100°C以下的极低湿气浓度区间(如接近1 ppbV),由于水分信号微弱,传感器的响应稳定性可能受到干扰,因此精度以估算值形式呈现。然而,Michell通过长期校验经验优化传感器算法,结合可追溯的13点校准证书(虽未明确提及Pura,但Michell其他型号如Easidew PRO XP具备此特性),确保了其在主流应用区间(-40°C至-100°C)的高可靠性。
在输出稳定性方面,Pura提供4-20 mA模拟输出,支持通过专用软件调整量程范围(标配为1°C至80°C露点)。同时,其输出故障状态定义清晰:23 mA表示传感器故障,20 mA为超上限,4 mA为超下限,便于用户快速诊断问题并维护系统。
Pura变送器的定位明确,主要服务于半导体制造行业和超纯气体应用领域 。在半导体生产中,超纯气体(如高纯氮气、氢气、氦气)常用于蚀刻、化学气相沉积(CVD)、原子层沉积(ALD)等关键工艺环节。这些工艺对气体纯度要求高,即使ppb级的水分也可能导致薄膜缺陷或器件性能下降。Pura通过其-120°C露点的测量能力,可实时监控气体纯度,确保工艺环境符合严苛标准。
在更广泛的超纯气体应用中,Pura同样适用于需要长期稳定监测湿气的场景,例如:
工业气体生产(如电子级气体、医疗气体);
高真空系统(如粒子加速器、实验室设备);
洁净室环境监控(如制药、光学制造)。
其经济性(低价位)与工业化设计(标准材料、简单安装)使其成为替代传统复杂湿度分析仪的理想选择,尤其适合需要大规模部署或预算有限的用户。
Michell Pura的核心技术亮点在于:
1.陶瓷湿度传感器:基于密析尔仪表多年研发经验,该传感器在超纯气体环境中表现出优异的耐腐蚀性和长期稳定性;
2.宽压力适应性:工作压力范围覆盖低至10⁻⁹ torr(极限真空)到24 MPa(高压气体),满足多样化的工业需求;
3.灵活配置:支持Premium/OEM型与Sensor型两种安装模式,前者自带底座与密封设计,后者适配用户自备接口,兼顾不同场景的灵活性。
从行业意义看,Pura通过降低高纯气体水分检测的技术门槛,推动了半导体制造等领域的工艺优化与成本控制。其“低价位、高性能"的特点,为超纯气体应用中的在线监测提供了可扩展的解决方案。
Michell Pura高纯气露点变送器凭借-120°C露点的测量下限、分区间量化的精度表现及针对半导体与超纯气体场景的定制化设计,成为工业领域中微量水分监测的重要工具。其技术成熟度与经济性结合,不仅解决了传统测量方案的复杂性问题,还为高纯气体质量控制提供了可靠保障。对于需要长期稳定监测痕量水分的用户而言,Pura是一个值得优先考虑的技术选择。