
更新时间:2026-03-10
浏览次数:18测量原理:薄膜氧化铝电容(绝对湿度测量)
关键性能
量程:-110℃~+20℃ 露点
输出:4–20mA 二线制,直接显示露点或 PPMv
供电:12–30VDC 回路供电
精度:±2℃(典型)
响应:T90 < 10s
应用场景
手套箱、空气干燥机、医药用气体干燥机、塑料烘干
设备配套、小型干燥系统集成
优势
✅ 成本低、安装极简、二线制布线
✅ 适合 OEM 与批量集成
测量原理:薄膜氧化铝电容(绝对湿度,非相对湿度)
关键性能
量程:-110℃~+20℃ 露点(可至 - 110℃)
精度:-100℃以上 ±2℃;-100℃以下 ±3℃
重复性:±0.2℃
耐压:M1(法兰)0–75psig;M2(螺纹)0–5000psig(345bar)
工作温度:-110℃~+50℃
响应:T63 < 5s
应用场景
石化、天然气、工业气体、半导体、发电、空气干燥器、制药、航空航天
原位测量或配合样品预处理系统
优势
✅ 宽量程、超高压适配、响应快、校准稳定
✅ 可测气体与非水液体
测量原理:薄膜氧化铝电容(三功能集成:湿度 + 温度 + 可选压力)
关键性能
量程:-110℃~+20℃ 露点(ppb 级分辨率)
精度:-100℃以上 ±2℃;-100℃以下 ±3℃
防护:IP66/67、本质安全(Ex ia)
布线:支持远距离(≤900m)
抗污染:强化涂层,适配复杂工况
应用场景
高纯气体(N₂、Ar、H₂)、半导体制造、氢冷发电机、制氢站、炉气 / 热处理
优势
✅ 本安、集成温压、抗污染、长距离布线
✅ ppb 级痕量水测量
测量原理:-FX 氧化铝传感器(新一代薄膜工艺)
关键性能
量程:-110℃~+20℃ 露点
精度:-100℃以上 ±2℃;-100℃以下 ±3℃
重复性:±0.2℃
输出:4–20mA + HART、背光显示 + 6 键操作
防爆:本安(Ex ia)、IP66/67
内置:NTC 温度、可选压力传感器
校准:NIST/NPL 溯源,可选 ISO17025 认证
应用场景
石油化工、天然气、炼油、氢气、发电、半导体、制药
优势
✅ 本安、HART、本地显示、现场可配置
✅ 可测气体与烃类液体
测量原理:同 HygroPro II(-FX 氧化铝)
关键性能
量程:-110℃~+20℃ 露点
精度:±2℃
防爆:隔爆(Ex d IIC T6)、IP66/67
输出:4–20mA + HART、多参数显示
压力:可选 30–5000psig 量程
应用场景
炼油厂、天然气管道、加氢装置、危险区工艺气体
优势
✅ 隔爆、强危险区合规、保留 HygroPro II 全部功能
测量原理:平面氧化铝电容传感器
关键性能
量程:-90℃~+10℃ 露点
精度:±1℃
输出:4–20mA 回路供电
结构:集成过滤 / 流量调节池、316SS 材质
安装:螺纹 / 法兰,现场易校准
应用场景
吸附式干燥机、管道天然气、工业气体、氢气、空压机后处理
优势
✅ 本安、成本低、集成流路、免预处理、可选显示与非显示、现场校准简单
测量原理:聚合物薄膜电容(快速响应、低漂移)
关键性能
量程:-15℃~+85℃ 露点
精度:±1℃
重复性:±0.2℃
输出:4–20mA + 隔离温度输出、本地显示
防爆:FM 防爆、IP67
校准:盐瓶现场快速校准
应用场景
石化、天然气、工业气体、半导体、炉气、制药、航空航天
优势
✅ 聚合物电容、响应快、校准稳、宽温、现场易校准
测量原理:可调谐二极管激光吸收光谱(TDLAS)
关键性能
量程:0–5000ppm(CO₂ 0–1000ppm);露点 -71℃~-2.6℃
精度:±1% 读数或 ±2ppm(取大)
响应:T90 < 1s
特点:无接触、无耗材、免维护、抗污染
应用场景
天然气脱水(TEG)、天然气输送 / 计量、CO₂驱油、金属热处理炉气、重整氢循环气
优势
✅ 极速响应、无漂移、免维护、抗污染、非接触
测量原理:冷镜冷凝法(物理原理,溯源 NIST)
关键性能
量程:-80℃~+85℃ 露点
精度:±0.1℃~±0.2℃(最高)
特点:自动镜面清洁(PACER)、多传感器可换、以太网通讯
应用场景
计量校准、实验室标准、传感器校验、高精度工艺控制
优劣势
✅ 最高精度、物理原理、无漂移、溯源性强
| 型号 | 技术原理 | 露点量程 | 精度 | 防爆 | 通讯 | 核心优势 | 典型应用 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Veridri | 氧化铝 | -110~+20℃ | ±2~3℃ | 无 | 4–20mA | 低成本、二线制 | OEM、干燥机 |
| M 系列 | 氧化铝 | -110~+20℃ | ±2~3℃ | 本安可选 | 无 | 宽量程、超高压 | 工业气体、石化 |
| MISP2 | 氧化铝 | -110~+20℃ | ±2~3℃ | 本安 | 无 | 集成温压、抗污染 | 高纯气、制氢 |
| HygroPro II | 氧化铝 (-FX) | -110~+20℃ | ±2~3℃ | 本安 | HART | 显示、HART、本安 | 危险区工艺 |
| HygroPro XP | 氧化铝 (-FX) | -110~+20℃ | ±2~3℃ | 隔爆 | HART | 隔爆、强危险区 | 炼油、加氢 |
| MMY30 | 氧化铝 | -90~+10℃ | ±1℃ | 本安 | 4–20mA | 集成流路、经济型 | 干燥机、天然气 |
| MMR31 | 聚合物 | -15~+85℃ | ±1℃ | 本安 | 4–20mA | 快速响应、易校准 | 通用工业 |
| Aurora TDLAS | 激光 | -71~-2.6℃ | ±1% 读数 | 本安 / 隔爆 | 数字 | 极速、无漂移 | 天然气、炉气 |
| Optica | 冷镜 | -80~+85℃ | ±0.1~0.2℃ | 无 | 以太网 | 最高精度、校准 | 实验室、计量 |
痕量水(ppb 级,-80℃以下):优先 M 系列、MISP2、HygroPro II/XP(氧化铝)
危险区:本安选 HygroPro II;隔爆选 HygroPro XP
快速响应 / 无漂移:Aurora TDLAS(激光)
高精度校准 / 实验室:Optica(冷镜)
经济型 / 干燥机:Veridri、MMY30
通用工业 / 宽温:MMR31(聚合物)